電解質(zhì)溶液的組成及狀態(tài)的影響

電化學(xué)拋光溶液的成分及配方對拋光質(zhì)量的影響  化學(xué)拋光時，電化學(xué)拋光溶液的成分及配比對拋光質(zhì)量有決定性的作用。雖然目前尚未有明確的用于指導(dǎo)溶液配比的理論，但經(jīng)過幾十年的實踐經(jīng)驗已形成了用于電化學(xué)拋光的各種金屬材料的系列電解液配方，并以這些系列配方為基礎(chǔ)不斷改進和提高，獲得了多種比較理想的電解液配方并推廣應(yīng)用。例如，在某些著作中提出對4Cr13鋼在硫酸(H2S04)、磷酸(H3P04)、甘油(C3 H8 03)和的混合液中能進行良好的拋光，原始表面粗糙度為R，3.  2Pm的鋼經(jīng)拋光后可明顯改善。有人通過試驗后對配方進行改進，不使用甘油而使用鉻酐，  即磷酸( H3P04)、硫酸( H2 S04)、鉻酐(Cr03)和水的電解質(zhì)溶液配方，取得了比前配方好的拋光效果。用甘油添加劑的溶液配方時，拋光后的表面發(fā)灰，由于甘油添量較大，溶液黏度大，溶解產(chǎn)物不易去除，從經(jīng)濟上考慮成本太高，采用鉻酐代替甘油后，拋光表面均勻、厚實，具有很好的表面粗糙度及很高的拋光質(zhì)量。

電解質(zhì)溶液的組成及狀態(tài)的影響

文章編輯：河南中整光飾機械有限公司 http://www.hardyamies.com.cn 

河南中整光飾機械有限公司專業(yè)生產(chǎn),光飾機,光整機,光整磨料,光整液等產(chǎn)品，專業(yè)解決各種精密件去毛刺光整技術(shù)難題.